Эрланген хотод төвтэй Фраунхофер IISB (Нэгдсэн систем ба төхөөрөмжийн технологийн хүрээлэн) болон Веттенберг хотод төвтэй богино долгионы болон радио давтамжийн плазмын систем үйлдвэрлэгч PVA TePla AG компаниуд хөнгөн цагааны нитрид (AlN) талст үйлдвэрлэх хамтарсан лабораторид өөрсдийн туршлагаа нэгтгэж байна.
Европын анхны түншлэл болох энэхүү түншлэл нь судалгаа, хөгжүүлэлтийн зорилгоор 2 инчийн диаметртэй монокристалл AlN суурь материалыг үйлдвэрлэлийн дэмжлэгтэйгээр бага хэмжээгээр үйлдвэрлэх боломжийг олгодог. Энэ нь Европт AlN суурь материалын хүртээмжийг мэдэгдэхүйц сайжруулж, улмаар AlN дээр суурилсан төхөөрөмж, системийн хөгжлийг хурдасгаж, үйлдвэрлэлийн хэрэглээнд шилжихэд хүргэдэг.
Хөнгөн цагааны нитрид нь дараагийн үеийн өндөр хүчин чадалтай электроникийн хамгийн ирээдүйтэй материалуудын нэг юм. Хэт өргөн зурвасын зайтай (UWBG) хагас дамжуулагчийн хувьд AlN нь фотоник, цахилгаан электроник, өндөр давтамжийн электроник, мөн хэт хүнд нөхцөлд ажилладаг электроникийн салбарт шинэ боломжуудыг нээж өгч байна. Өнөөдрийг хүртэл өндөр чанартай, том талбайтай, өртөг хэмнэлттэй AlN суурь материалын хомсдол нь AlN дээр суурилсан электрон системийн хөгжлийг хойш татаж байна.
"Хамтарсан лабораторийн тусламжтайгаар бид Европоос AlN субстратын найдвартай хангамжийг хангах суурийг тавьж, улмаар дараагийн үеийн өндөр хүчин чадалтай AlN төхөөрөмжүүдийн шинэ боломжийг нээж өгч байна" гэж Fraunhofer IISB-ийн нитридийн материалын бүлгийн удирдагч, AlN материалын хөгжүүлэлтийг хариуцсан доктор Свен Бесендорфер хэлэв. "Бид PVA TePla-тай хамтран үйлдвэрлэлийн талст өсөлтийн чиглэлээр туршлагаа хуваалцаж, улмаар бетон хэрэглээнд шилжих урьдчилсан нөхцөлийг бүрдүүлж байна."
Батлагдсан тоног төхөөрөмжийн технологи нь өмчийн процессын ноу-хаутай нийцдэг
Хамтарсан лабораторид Fraunhofer IISB нь өөрийн PVT (физик уурын тээвэрлэлт) процессын технологийг ашиглан 2 инчийн AlN бөөн талстыг гаргаж авч байна. Энэ процесст AlN нунтагыг 2000°C-аас дээш температурт тигельд ууршуулж, үрийн талст дээр байрлуулдаг. PVA TePla нь энэ зорилгоор PVT системүүдийг санал болгодог бөгөөд эдгээрийг дэлхий даяар 8 инчийн диаметртэй цахиурын карбид (SiC) талстуудад аль хэдийн ашиглаж байгаа бөгөөд одоо 2 инчийн AlN талстыг ургуулахад тусгайлан тохируулсан болно.
Fraunhofer IISB-ийн оруулсан технологийн мэргэжлийн ур чадварын ачаар PVA TePla баг өөрийн үйлдвэрүүддээ харьцуулахуйц чанартай AlN талстыг хурдан хугацаанд үйлдвэрлэж чадсан. Joint Lab нь 2 инчийн AlN талстыг тогтвортой жижиг багцаар үйлдвэрлэхэд анхаарлаа хандуулдаг. Үйл явцын тогтвортой байдал, давтагдах чадвар, гарц, өртгийн бүтцийг системтэйгээр оновчтой болгохын тулд үйлдвэрлэлийг аажмаар нэмэгдүүлж байна.
"Хөнгөн цагааны нитридийн тусламжтайгаар бид SiC-ийн дараах дараагийн үеийн технологийг идэвхтэйгээр бүрдүүлж байна" гэж PVA TePla компанийн судалгаа, хөгжүүлэлтийн дэд ерөнхийлөгч доктор Ян Пфайффер хэлэв. "Хамтарсан лабораториор дамжуулан бид тоног төхөөрөмжийнхөө туршлагыг Fraunhofer IISB-ийн процессын ноу-хаутай шууд хослуулж, дэлхийн хэрэглэгчдэдээ зах зээлд чиглэсэн шийдлүүдийг эрт үе шатанд санал болгох боломжтой" гэж тэр нэмж хэлэв. "Бидний нийтлэг зорилго бол тохиромжтой субстратаар дамжуулан AlN салбарын зах зээлийн хөгжлийг өдөөх, энэ салбарт технологийн түншээр орохыг хүсч буй компаниудыг зөв тоног төхөөрөмж, холбогдох процессын туршлагатайгаар дэмжих явдал юм."
Аж үйлдвэрийн цар хүрээг өргөжүүлэх замаар Европын технологийн бүрэн эрхт байдлыг бэхжүүлэх
Хамтарсан лабораторид үйлдвэрлэсэн AlN талстуудыг цаашид Фраунхофер IISB-д боловсруулж, эпи-бэлэн AlN суурь болгон ашигладаг бөгөөд Эрланген хотод байрладаг судалгаа, бүтээгдэхүүн хөгжүүлэлтийн LZE GmbH компаниар дамжуулан үйлдвэрлэлийн хөгжил, өргөжүүлэх процесст тусгайлан шилжүүлдэг. "Европын хагас дамжуулагчийн бүрэн эрхт байдлын хувьд шинэ гол материалыг зөвхөн боловсруулаад зогсохгүй үйлдвэрлэлийн хэрэглээнд хурдан шилжүүлэх, өргөжүүлэх боломжтой үнэ цэнийг бий болгох нь чухал юм" гэж LZE-ийн гүйцэтгэх захирал доктор Кристиан Форстер хэлэв. "Хамгийн сүүлийн үеийн технологийн зах зээлтэй LZE GmbH нь компаниуд болон судалгааны байгууллагуудад дэлхий даяар өвөрмөц, нээлттэй AlN суурьтай болох боломжийг олгодог. Ингэснээр бид өндөр хэмжээний үйлдвэрлэлийн зах зээлд зориулсан ирээдүйтэй хэрэглээг зах зээлд илүү хурдан гаргахад тусалдаг."
Нийтэлсэн цаг: 2026 оны 7-р сарын 20